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BV-10 優(yōu)雅且易于使用，可對 0.1 至 100 μm 的微量移液器吸頭進行精確斜切。獨特的磨盤驅動系統(tǒng)無振動，可更好地控制斜切過程。使用 Brown 和 Flaming，Science，1974 年 8 月，第 185.

細胞內(nèi)記錄電極可以從斜切中受益，因為：

• 通過在電極上創(chuàng)建尖點來減小尖端直徑

• 由于管腔的橫截面積較大，電極的電阻降低。

這極大地促進了穿透和保持非常小的或困難的細胞。顯微注射針頭也受益于斜切，它可以促進以最小的損傷進入細胞，同時增強材料通過針頭的流動。

基本的斜切系統(tǒng)由一個固定的基座組成，該基座具有半波 (250 nm) 的光學平面，表面安裝在一個沉重的基板上。這用作磨料涂層玻璃磨盤的軸承，該磨盤也是平到半波的。平面磨盤通過磁場耦合到低振動、低速電機，以提供無擺動的平面磨削表面。磨料板采用專有工藝制造，可確保一致的磨料涂層。

一個 2 軸顯微操作器將移液器固定在斜面上，并允許受控推進到研磨表面上。斜角和推進速度可調(diào)。帶鵝頸管的 LED 燈通過為研磨板和移液管提供銳利的照明來增強斜切操作。

基本系統(tǒng)由您選擇的兩個研磨板、一個帶支架的燈芯（用于濕斜切）、底座油、脫脂液和手冊完成。

有兩個選項可用于監(jiān)控斜切過程，一個 40X 立體顯微鏡和一個電極阻抗計. 根據(jù)您的研究應用，可能需要這些選項中的一個或兩個。對于所有微量移液器應用，擺動安裝式顯微鏡增強了您對移液器前進到研磨板上的控制，并允許查看斜切操作（除了非常大的吸頭外，示波器分辨率不足以查看實際斜切）。對于微電極應用，阻抗計用于監(jiān)測斜切操作期間的尖端電阻。該儀表采用模擬設計，提供三個電阻范圍（0-10、0-100、0-500 MOhm）。以 12 Hz 的頻率進行測量，以最大限度地減少對測量阻抗的電容貢獻，并提供接近真實的直流電阻值。快速滾降用于減少 50/60 Hz 干擾，

常見應用 BV-10

特征

• 無振動、磁耦合斜切表面

• 磨料表面光學平坦至半波 (250 nm)

• 市面上最精細的研磨表面

• 同步時鐘馬達確保穩(wěn)定的轉速

• 7 磅鋼底板增加了額外的阻尼

• 一體式LED燈

• 強大的顯微操縱器控制斜角和前進